Компания IBM заявила об успешной разработке первого в мире чипа, построенного по 29,9 нм нормам, что втрое меньше, чем в господствующих сейчас 90 нм технологиях. В первую очередь, по мнению специалистов компании, главная роль этого достижения – наглядное доказательство наличия резервов для совершенствования традиционных фотолитографических методов создания микросхем, и отсутствие необходимости перехода на принципиально новые технологии их производства, как минимум, в ближайшие семь лет.

Что касается массового производства чипов по наиболее «тонким» технологиям, здесь в настоящее время лидирует Intel со своими 65 нм процессорами. Ожидается, что к третьему кварталу 2006 г. этот техпроцесс займет господствующее положение в отрасли. Результаты работы Intel по подготовке последующего перехода к 45 нм также выглядят вполне оптимистично, но еще несколько лет назад компания говорила о значительных трудностях, связанных с переходом к 32 нм нормам или около того в рамках использования оптической литографии. Возможно, именно разработки IBM станут ключом для решения этой проблемы.